来源:DIGITIMES ASIA
佳能预计其纳米压印光刻机将于今年出货,与ASML的EVU设备竞争市场,因为世界各地的经济体都热衷于扩大其本土芯片产能。
佳能董事长兼首席执行官Hiroaki Takeishi向英国《金融时报》表示,公司计划于2024年开始出货其纳米压印光刻机FPA-1200NZ2C,并补充说芯片可以轻松以低成本制造。2023年11月,该公司表示该设备的价格将比ASML的EUV机器便宜一位数。
佳能表示,与利用光曝光电路图案的传统光刻技术不同,纳米压印光刻不需要光源,利用简单的原理形成电路,只需将电路图案掩模转移到晶圆表面涂覆的抗蚀剂上即可。此外,纳米压印光刻技术可以一次形成复杂的二维和三维图案,与先进的逻辑曝光技术相比,功耗可降低约十分之一。
Takeishi表示,佳能并不打算从(ASML的)EUV中抢夺市场份额,公司相信多种光刻技术可以共存,为行业的整体增长做出贡献。
Ansforce首席执行官Jeff Chu表示,由于目前大容量NAND闪存采用3D堆叠结构,更适合纳米压印光刻。Bits Chips报道称,SK海力士和Kioxia多年来一直在测试佳能的纳米压印光刻机。尽管如此,SK海力士在2023年5月表示,纳米压印光刻技术的引入可能或商业化尚未讨论。
采用该技术制造的芯片的良率还有待观察。英国《金融时报》援引分析师的话称,良率必须接近90%才能与ASML的技术竞争。Radio Free Mobile的创始人Richard Windsor表示,如果这项技术真的更先进的话,那么它现在就已经投入运行,并大量投放市场了。
Takeishi告诉英国《金融时报》,佳能已经基本解决了这个问题。然而,由于现有的芯片制造工艺是针对EUV进行优化的,因此引入新技术会遇到各种困难。
原文链接:
https://www.digitimes.com/news/a20240129VL200.html
【近期会议】
2024年3月29日14:00,雅时国际商讯联合Park原子力显微镜、蔡司、九峰山实验室即将举办“缺陷检测半导体材料和器件研发和生产的利器”专题会议,助力我国宽禁带半导体行业的快速健康发展!诚邀您参与交流:https://w.lwc.cn/s/IJnYR3